1单晶表面离子注入,利用高压离子枪,把电子打入半导体,控制能量,控制参杂深度和数目.2.制备原料上参入施主元素,根据量不同调节含量.3.制备过程中,外部输入施主元素,和原有物质共同结晶.制备方法很多,PVD,PLD,PECVD,MOCVD,MBE等等很多
这个有个公式的啊.
