金属靶材

金属靶材是指在物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）技术中用于溅射镀膜的金属材料。它们通常以固体的形式存在，具有特定的形状和尺寸，用于产生金属薄膜。金属靶材是通过以下步骤形成的：
1. 材料制备：金属靶材的制备过程通常包括材料精炼和纯化，以获得高纯度的金属。这可以通过冶炼、精炼和其他化学处理方法来实现。目标是减少杂质的存在，以确保薄膜的质量和性能。
2. 靶材制备：在材料制备后，金属靶材被制备成特定的形状和尺寸。常见的形状包括圆盘、矩形和圆柱等。制备过程通常包括切割、修整和加工，以获得所需的靶材尺寸和形状。
金属靶材在物理气相沉积技术中具有广泛的应用。其主要用途包括：
1. 薄膜沉积：金属靶材通过溅射过程，使金属原子或离子从靶材表面释放并沉积在基底上，形成金属薄膜。这种薄膜可以具有导电性、光学性质、反射性、防腐性等特性，广泛应用于光学涂层、电子器件、太阳能电池等领域。
2. 材料研究和分析：金属靶材可用于研究材料的物理、化学和电学性质。例如，通过溅射镀膜，可以制备样品用于材料分析和表征，如薄膜结构分析、电学性能测试等。

我所知道的金属靶材一般都是用在溅射上，溅射是一种制备薄膜的工艺。我们实验室用的都是圆形的片子，不同的设备要求靶材尺寸不同
详细请去维基百科查找溅射的相关信息