285nm的二氧化硅硅片抛光后表面粗糙度会达到多少氧化硅抛光液[1] 是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。
